專利說明書是專利申請/專利文件的重要組成部分。

其作用是明確、完整地解釋權(quán)利要求,使公眾能夠準確地理解發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容,確定專利權(quán)利保護的界限。

如何撰寫專利說明書？就目前的專利說明書而言,主要包括以下內(nèi)容：發(fā)明名稱、技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖說明（可選）和具體實施例。

每個部分都起著重要的作用。

1、發(fā)明名稱對于一般發(fā)明名稱,名稱越簡單越好,技術(shù)特點越少越好,盡量不要出現(xiàn)表達程度的詞。

這種差異主要是因為專利制度對權(quán)利要求的覆蓋范圍有嚴格的要求。

一般來說,發(fā)明名稱應作為權(quán)利要求的主題。

根據(jù)綜合覆蓋理論,權(quán)利要求主題中的技術(shù)特征也應視為權(quán)利要求保護的技術(shù)方案的組成部分,表達程度的詞會導致權(quán)利要求保護的范圍不明確。

因此,對于發(fā)明名稱,越簡單越好,不必擔心與其他專利申請相同的發(fā)明名稱,因為這種情況不會影響發(fā)明本身。

2、背景技術(shù)背景技術(shù)的描述側(cè)重于深度,導致現(xiàn)有技術(shù)的缺陷。

一般來說,可以引用最接近本發(fā)明技術(shù)方案的專利或論文進行比較。

例如,在背景技術(shù)中,發(fā)明者可以描述不同的技術(shù)解決方案來解決同一問題,并指出各種技術(shù)解決方案的缺陷,也可以一般地解釋現(xiàn)有技術(shù)的缺陷。

需要注意的是,中美專利說明書也有很大差異。

在中國的專利說明書中,背景技術(shù)一般描述了現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題；現(xiàn)有專利文獻說明技術(shù)的缺陷一般應引用于美國的專利說明書。

3、發(fā)明內(nèi)容目前,我國的專利制度要求發(fā)明內(nèi)容包括技術(shù)問題、技術(shù)解決方案和有益效果,對順序沒有嚴格的要求。

但是,技術(shù)解決方案至少需要包括保護獨立權(quán)利要求的技術(shù)解決方案,但在專利實踐中,發(fā)明內(nèi)容部分一般會寫下屬權(quán)利要求的特點,其優(yōu)點是避免在未來的實際審查階段修改說明。

需要注意的是,由于技術(shù)問題在背景技術(shù)中一般都有明確的說明,因此在發(fā)明的內(nèi)容部分不需要重復描述,一般簡稱為解決上述技術(shù)問題。

4、附圖說明在附圖描述中,需要稍微處理一下圖的名稱,區(qū)分哪些是現(xiàn)有技術(shù),哪些是本發(fā)明提出的技術(shù)方案。

5、具體實施方法具體實施方法的撰寫不僅可以包括最佳實現(xiàn)方案,還可以包括次優(yōu)實現(xiàn)方案,還可以包括簡單變形后根據(jù)最佳或次優(yōu)實現(xiàn)方案獲得的實現(xiàn)方案。

因此,在撰寫專利說明書時,必須跳出寫論文的模式,通過發(fā)散思維,在專利說明書中提供更多的實施例子。

以上是撰寫專利說明書的相關(guān)內(nèi)容,希望對您有幫助。