《內(nèi)羅畢條約》與《華盛頓公約》內(nèi)容講解
《保護奧林匹克會徽內(nèi)羅畢條約》(Nairobi Treaty on the Protection of the Olympic Symbol),簡稱《內(nèi)羅畢條約》,1981年通過。
參加《內(nèi)羅畢條約》的所有國家均有義務保護奧林匹克會徽,制止未經(jīng)國際奧林匹克委員會的許可將其用于商業(yè)目的(如廣告中、商品上、作為商標等)的行為。
本條約的一個重要作用是,如果國際奧林匹克委員會許可在本條約的某一締約方使用奧林匹克會徽,該國的國家奧林匹克委員會有權(quán)分享國際奧林匹克委員會因給予此類許可而獲得的任何收人。
本條約對世界知識產(chǎn)權(quán)組織、《巴黎公約》、聯(lián)合國或與聯(lián)合國建立關(guān)系的任何專門機構(gòu)的任何成員國開放。
批準書、接受書、認可書或加人書必須交世界知識產(chǎn)權(quán)組織總干事保存。
《保護集成電路知識產(chǎn)權(quán)的華盛頓公約》(Washington Treaty on Intellectual Property in Respect of Integrated Circuits ),簡稱《華盛頓公約》或《集成電路條約》,1989年5月26日簽訂于華盛頓。
《華盛頓公約》共20條。
其主要內(nèi)容包括聯(lián)盟的建立,定義,條約的客體,保護的法律形式,國民待遇,保護范圍,實施、登記、公開,大會,國際局,修改,《巴黎公約》和《伯爾尼公約》的保障,保留,爭議的解決,參加,生效,退出,文本,保存人,簽字。
該公約明確規(guī)定,“集成電路”是指一種產(chǎn)品,在它的最終形態(tài)或中間形態(tài),是將多個元件,其中至少有一個是有源元件,和部分或全部互連集液在一塊材料之中和/或之上,以執(zhí)行某種電子功能。
“布圖設(shè)計(拓撲圖)”是指集成電路中多個元件,其中至少有一個是有源元件,和其部分或全部集成電路互連的三維配置,或者是指為集成電路的制造而準備的這樣的三維配置。
《華盛頓公約》規(guī)定成員國應對集成電路的布圖設(shè)計實行注冊保護,注冊申請無須具有新穎性,集成電路布圖設(shè)計的所有人在其產(chǎn)品投入商業(yè)領(lǐng)域后兩年之內(nèi)提交申請即可,保護期至少為10年。
受保護的條件除了“獨創(chuàng)性”“非一般性”,還有“非僅僅其有關(guān)功能的有限表達方式”。
公約還規(guī)定了國民待遇,即各成員國對于其他成員國的國民或居民,只能要求與本國國民一樣地履行手續(xù),并且給予同樣的保護。
這與諸版權(quán)公約中的國民待遇不同,而與《巴黎公約》相似。
但《與貿(mào)易有關(guān)的知識產(chǎn)權(quán)協(xié)定》規(guī)定其成員必須遵守該條約的第2~7條、第12條以及第16條中的部分規(guī)定。
我國于1990年5月1日簽署了該條約。
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