實(shí)用新型專利的寫作要求主要包括以下幾個方面：

1. 實(shí)用新型專利的標(biāo)題應(yīng)簡潔明了，能夠準(zhǔn)確反映專利的主題和技術(shù)領(lǐng)域。標(biāo)題通常包括發(fā)明的名稱、所屬領(lǐng)域以及專利類型（如發(fā)明專利、實(shí)用新型專利等）。

2. 摘要是對實(shí)用新型專利內(nèi)容的簡要概述，通常包括發(fā)明的背景、目的、技術(shù)方案、實(shí)施方式以及與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別等。摘要應(yīng)簡明扼要，突出重點(diǎn)，便于讀者快速了解專利的核心內(nèi)容。

3. 技術(shù)領(lǐng)域：描述實(shí)用新型專利所涉及的技術(shù)領(lǐng)域，明確指出其解決的技術(shù)問題和應(yīng)用場景。技術(shù)領(lǐng)域的描述有助于讀者理解專利的創(chuàng)新點(diǎn)和應(yīng)用領(lǐng)域。

4. 背景技術(shù)：簡要介紹與實(shí)用新型專利相關(guān)的背景技術(shù)，包括相關(guān)領(lǐng)域的研究現(xiàn)狀、已有技術(shù)及其不足之處等。背景技術(shù)的闡述有助于讀者了解專利的理論基礎(chǔ)和技術(shù)基礎(chǔ)。

5. 發(fā)明內(nèi)容：詳細(xì)描述實(shí)用新型專利的技術(shù)方案，包括發(fā)明的目的、技術(shù)特征、實(shí)施方式等。發(fā)明內(nèi)容應(yīng)突出創(chuàng)新點(diǎn)，避免冗長的描述，確保專利的核心內(nèi)容得到充分體現(xiàn)。

6. 附圖說明：根據(jù)需要提供實(shí)用新型專利的附圖，包括圖紙編號、圖名、比例尺等信息。附圖應(yīng)清晰、準(zhǔn)確地展示發(fā)明的結(jié)構(gòu)、工作原理和操作過程。

7. 權(quán)利要求：列出實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍，明確指出發(fā)明的技術(shù)特征和保護(hù)對象。權(quán)利要求應(yīng)具體、明確，避免模糊不清的描述，確保專利的可執(zhí)行性和保護(hù)范圍的準(zhǔn)確性。

8. 說明書：詳細(xì)描述實(shí)用新型專利的發(fā)明內(nèi)容、技術(shù)方案、實(shí)驗(yàn)方法、結(jié)果及應(yīng)用前景等。說明書應(yīng)條理清晰、邏輯嚴(yán)謹(jǐn)，為讀者提供完整的技術(shù)信息。

9. 參考文獻(xiàn)：列出撰寫實(shí)用新型專利過程中引用的相關(guān)文獻(xiàn)，以支持專利的創(chuàng)新性和技術(shù)合理性。參考文獻(xiàn)應(yīng)規(guī)范、完整，確保專利的學(xué)術(shù)價值和可信度。

10. 其他要求：根據(jù)所在國家或地區(qū)的專利法規(guī)，可能還有其他具體要求，如申請流程、費(fèi)用繳納、審查周期等。在撰寫實(shí)用新型專利時，應(yīng)遵循所在國家或地區(qū)的專利法規(guī)，確保專利的合法性和有效性。