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專利先用權(quán)抗辯成立的條件有哪些 專利先用權(quán)制度

在專利侵權(quán)糾紛中,先用權(quán)抗辯成立的條件包括技術(shù)方案的同一性、時間界限的合規(guī)性、實施范圍的限定性以及技術(shù)來源的合法性等。下面將詳細分析這些條件:

  1. 技術(shù)方案的同一性

    • 相同或等同的技術(shù)方案:被控侵權(quán)技術(shù)方案與涉案專利技術(shù)方案需構(gòu)成相同或等同,同時,被控侵權(quán)人所主張的在先技術(shù)方案也應與被訴侵權(quán)技術(shù)方案構(gòu)成相同或等同。
    • 先前技術(shù)的實施行為:先用權(quán)人必須在原有范圍內(nèi)制造、使用發(fā)明創(chuàng)造才能享有先用權(quán)抗辯。
  2. 時間界限的合規(guī)性

    • 專利申請日之前的行為:在先實施行為需發(fā)生在涉案專利申請日之前,具體包括在中國境內(nèi)制造相同產(chǎn)品、使用相同方法,或者已經(jīng)為制造、使用做好必要準備。
    • 新穎性寬限期內(nèi)的行為:先用權(quán)人在《專利法》第二十四條規(guī)定的新穎性寬限期內(nèi)展出其發(fā)明創(chuàng)造,或者在國際展覽會上展出,可以享有先用權(quán)抗辯。
  3. 實施范圍的限定性

    • 原有的生產(chǎn)規(guī)模:先用權(quán)的行使僅限于原有范圍,即專利申請日前已有的生產(chǎn)規(guī)模以及利用已有的生產(chǎn)設(shè)備或根據(jù)已有的生產(chǎn)準備所能達到的生產(chǎn)規(guī)模。
    • 超出原有范圍的部分不視為侵犯:當先用權(quán)人實施專利的行為超出了原有范圍時,在原有范圍之內(nèi)的實施行為不視為侵犯專利權(quán)的行為,超出原有范圍的部分實施行為屬于侵犯專利權(quán)的行為。
  4. 技術(shù)來源的合法性

    • 獨立完成的技術(shù):先用權(quán)人所主張的在先實施技術(shù)須為其獨立完成或合法獲得。
    • 非公知技術(shù):先用權(quán)人所主張的在先技術(shù)方案應為非公知技術(shù),即該技術(shù)未被公眾廣泛知曉。

在專利侵權(quán)糾紛中,先用權(quán)抗辯的成功與否取決于多個因素,包括技術(shù)方案的同一性、時間界限的合規(guī)性、實施范圍的限定性以及技術(shù)來源的合法性。企業(yè)在面臨專利侵權(quán)訴訟時,應充分了解并運用這些抗辯條件,以維護自身的合法權(quán)益。

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