撰寫(xiě)專利權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)要求包括權(quán)利要求的一般要求、撰寫(xiě)7步法、技術(shù)名詞和術(shù)語(yǔ)一致性等。

權(quán)利要求的基本要求：

1. 權(quán)利要求的一般要求：權(quán)利要求書(shū)應(yīng)當(dāng)簡(jiǎn)要、清楚和完整地列出說(shuō)明書(shū)中所描述的所有新的技術(shù)特點(diǎn)。

2. 權(quán)利要求的撰寫(xiě)7步法：采用7步法可以幫助確定核心技術(shù)特征和關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)，構(gòu)造核心獨(dú)立權(quán)利要求，審定核心權(quán)利要求的技術(shù)主題，校核核心獨(dú)立權(quán)利要求，分層次布置從屬權(quán)利要求，撰寫(xiě)其它權(quán)利要求組。

3. 撰寫(xiě)7步法詳解：

   • 確定核心技術(shù)特征和關(guān)鍵創(chuàng)新點(diǎn)，這是撰寫(xiě)權(quán)利要求書(shū)的基礎(chǔ)，需要與現(xiàn)有技術(shù)相比較，并找出最具創(chuàng)造性的創(chuàng)新點(diǎn)。
   • 構(gòu)造核心獨(dú)立權(quán)利要求，基于上述核心特征構(gòu)建初步的權(quán)利要求，這通常是整個(gè)申請(qǐng)的核心內(nèi)容。
   • 審定核心權(quán)利要求的技術(shù)主題，明確權(quán)利要求書(shū)所要保護(hù)的技術(shù)主題，確保其具有明確的指向性。
   • 校核核心獨(dú)立權(quán)利要求，檢查其是否能夠覆蓋所有必要的技術(shù)特征，避免遺漏或過(guò)度泛化。
   • 分層次布置從屬權(quán)利要求，根據(jù)核心獨(dú)立權(quán)利要求，進(jìn)一步細(xì)化并擴(kuò)展出更具體的從屬權(quán)利要求。
   • 撰寫(xiě)其它權(quán)利要求組，根據(jù)需要可撰寫(xiě)多個(gè)權(quán)利要求組，每個(gè)權(quán)利要求組針對(duì)特定的技術(shù)問(wèn)題或應(yīng)用場(chǎng)景。

注意事項(xiàng)：

1. 權(quán)利要求書(shū)的結(jié)構(gòu)與內(nèi)容：權(quán)利要求書(shū)通常包括產(chǎn)品、方法或其改進(jìn)的獨(dú)立權(quán)利要求，以及引用這些技術(shù)特征的從屬權(quán)利要求。在撰寫(xiě)時(shí)，應(yīng)保持結(jié)構(gòu)的清晰性和邏輯性，確保每一項(xiàng)權(quán)利要求都是對(duì)發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷臏?zhǔn)確描述。

2. 技術(shù)名詞和術(shù)語(yǔ)的一致性：在整個(gè)專利申請(qǐng)過(guò)程中，必須使用與說(shuō)明書(shū)中一致的技術(shù)名詞、術(shù)語(yǔ)。這不僅關(guān)系到權(quán)利要求書(shū)的質(zhì)量，還影響到后續(xù)審查和解釋的過(guò)程。

3. 化學(xué)式和數(shù)學(xué)式的使用：在某些情況下，為了更準(zhǔn)確地描述某些技術(shù)問(wèn)題，可以合理使用化學(xué)式或數(shù)學(xué)式來(lái)表達(dá)技術(shù)特征。但需注意，這些表達(dá)方式不能作為權(quán)利要求的一部分。

4. 避免非必要技術(shù)的寫(xiě)入：在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，應(yīng)避免寫(xiě)入任何非必要的技術(shù)特征，因?yàn)檫@將直接影響到權(quán)利要求的寬度和穩(wěn)定性。

5. 避免使用絕對(duì)表述：在權(quán)利要求書(shū)中，應(yīng)避免使用“所有”、“僅僅”等絕對(duì)表述，因?yàn)檫@可能導(dǎo)致權(quán)利范圍的不明確或過(guò)于寬泛。

6. 尊重專利局的規(guī)定：在撰寫(xiě)權(quán)利要求之前，應(yīng)仔細(xì)研究并了解所申請(qǐng)國(guó)家或地區(qū)的專利局關(guān)于權(quán)利要求書(shū)的格式、規(guī)范要求，以確保符合相關(guān)規(guī)定。